瑞晶太陽能工藝技術部 習冬勇

RENA Intex前清洗工序的目的

去除硅片表面的機械損傷層（來自硅棒切割的物理損傷）

清除表面油污（利用HF）和金屬雜質（利用HCl）

形成起伏不平的絨面，增加對太陽光的吸收，增加PN結面積，提高短路電流（Isc），最終提高電池光電轉換效率

設備構造

前清洗工藝步驟： 制絨→堿洗 →酸洗→吹干

RENA Intex前清洗設備的主體分為以下八個槽，此外還有滾輪、排風系統、自動及手動補液系統、循環系統和溫度控制系統等。

Etch bath：刻蝕槽，用于制絨。 所用溶液為HF+HNO3 ，作用：

1) 去除硅片表面的機械損傷層；

2) 形成無規則絨面。

Alkaline Rinse：堿洗槽 。 所用溶液為KOH，作用：

1) 對形成的多孔硅表面進行清洗；

2) 中和前道刻蝕后殘留在硅片表面的酸液。

Acidic Rinse：酸洗槽 。 所用溶液為HCl+HF，作用：

1) 中和前道堿洗后殘留在硅片表面的堿液；

2) HF可去除硅片表面氧化層（SiO2），形成疏水表面，便于吹干；

3) HCl中的Cl-有攜帶金屬離子的能力，可以用于去除硅片表面金屬離子。

前清洗工序工藝要求

片子表面7S控制

不容許用手摸片子的表片，要勤換手套，避免擴散后出現臟片

稱重

1) 每批片子的腐蝕深度都要檢測，不允許編造數據，搞混批次等。

2) 要求每批測量1-2片。

3) 放測量片時，把握均衡原則。如第一批放在1.3.5.7道，下一批則放在2.4.6.8道，便于檢測設備穩定性以及溶液的均勻性。

刻蝕槽液面的注意事項：

正常情況下液面均處于黃綠色，如果一旦在生產過程中顏色改變，立即通知工藝人員。